摘要:以西兰花(Brassica oleracea L.var.italica Planc)为试验材料,采用叶面喷施K2SiO3的方法,研究了硅对不同浓度铬胁迫下西兰花幼苗地上部分生长和铬积累量的影响。结果表明,50 mg·L-1铬胁迫处理促进了西兰花的生长,西兰花幼苗的苗高、单株鲜重、SOD活性、POD活性等均较对照提高,MDA含量降低;当铬浓度超过100 mg·L-1后,随铬处理浓度的增加,西兰花的苗高、单株鲜重及SOD活性、POD活性等均逐渐降低,MDA含量增加。由统计分析可知,Cr6+胁迫显著影响西兰花生长的浓度为100 mg·L-1。1~100 mg·L-1Cr6+可有效促进植株对Cr6+吸收与积累,但200 mg·L-1 Cr6+处理西兰花对铬的吸收量减少。喷施1.5 mmol·L-1K2SiO3处理后明显提高了西兰花幼苗的苗高、单株鲜重以及SOD、POD活性,降低了MDA含量和铬的积累,减轻了铬胁迫对西兰花的毒害。